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我国在新型直接光刻设备研发中抢占先机

时间:2021-11-13    来源:ag亚洲集团登录网址    人气:

本文摘要:近日,一种新型的中紫外必要光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在国内研制成功。该设备使用特有的高均匀分布、低光束中紫外灯光技术,融合光敏玻璃材料,构建基于光敏玻璃基底的识结构必要加工,需要很大修改工艺流程,将有力增进光敏玻璃识结构的光刻工艺技术“革命”,目前在国内仍未闻有此类产品顺利研发的报导。光刻设备是用作识结构加工的核心设备,在微电子、生物、医学和光学等领域获得全面应用于。 由于光刻工艺的容许,原先光刻设备大多是针对光刻胶曝光展开技术研发。

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近日,一种新型的中紫外必要光刻机由中国科学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队在国内研制成功。该设备使用特有的高均匀分布、低光束中紫外灯光技术,融合光敏玻璃材料,构建基于光敏玻璃基底的识结构必要加工,需要很大修改工艺流程,将有力增进光敏玻璃识结构的光刻工艺技术“革命”,目前在国内仍未闻有此类产品顺利研发的报导。光刻设备是用作识结构加工的核心设备,在微电子、生物、医学和光学等领域获得全面应用于。

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由于光刻工艺的容许,原先光刻设备大多是针对光刻胶曝光展开技术研发。而针对玻璃基底的识结构加工具备特殊性:光敏玻璃光谱脆弱特性不同于光刻胶、识结构浅宽比大和几乎非认识曝光。近年来,针对玻璃基底的识加工技术越发最重要,在微流触芯片、微光学元件以及OLED显示屏等新型识结构的加工中市场需求急迫,也是国内外光刻设备研发的最重要方向之一。

因此,光电技术研究所微电子专用设备研发团队牵头国内外科研机构,积极开展了汞灯光源、大口径高精度反射镜、中紫外镀膜和间隙测量等技术研发,顺利提升了汞灯光源中紫外光谱能量,通过反射式光路结构确保光能利用率和光束性,仪器间隙测量和控制技术构建非认识曝光,并展开了光敏玻璃必要光刻实验,构建了玻璃基底高分辨、高深宽比、大面积识结构的必要光刻工艺。该设备的顺利研制,是光刻设备研发与光刻工艺应用于融合的产物,将增进光刻工艺的革命性改良,符合国际光刻设备研究发展趋势,也使得我国在新型必要光刻设备研发中守住先机。


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